Çinli Langdao Silex firması, gelişmiş yarı iletken üretiminde kullanılan aşırı ultraviyole (EUV) litografi ekipmanları için geliştirdiği yerli ışık kaynağı prototipini Şanghay'daki sanayi fuarında sergiledi.
Üç noktada haber
Langdao Silex, Şanghay Uluslararası Sanayi Fuarı'nda geliştirdiği aşırı ultraviyole (EUV) ışık kaynağı prototipini sergiledi.
Şirket temsilcisinin aktardığına göre makine bileşenlerinin yüzde 90'ı yerlileştirildi ve çekirdek parçalar kurum içinde üretildi.
Şirket yetkilileri laboratuvar aşamasından sanayiye geçiş için prototipin kritik olduğunu, ancak seri üretimin üç ila beş yıl uzakta olduğunu bildirdi.
Çin merkezli girişim Langdao Silex, gelişmiş mikroçip üretim sistemlerinin en kritik bileşeni olarak kabul edilen aşırı ultraviyole (EUV) ışık kaynağı prototipini kamuoyuna tanıttı. Şanghay'da düzenlenen Çin Uluslararası Sanayi Fuarı kapsamında sergilenen sistem, Pekin yönetiminin yarı iletken imalat ekipmanlarında dışa bağımlılığı azaltma hedefi doğrultusunda atılmış somut bir teknik adım niteliği taşıyor.
Çin yerel basınından Jiefang Daily'nin aktardığı bilgilere göre fuardaki şirket temsilcisi, sergilenen makinenin bileşenlerinin yüzde 90'ının yerelleştirildiğini ve ana parçaların büyük çoğunluğunun şirket bünyesinde geliştirildiğini açıkladı. Standda görevli teknik personel, prototipin yerli EUV ışık kaynaklarını laboratuvar ortamından çıkarıp endüstriyel üretime aktarma yolunda kritik bir eşik oluşturduğunu kaydetti. Bununla birlikte aynı yetkililer, sistemin ticari olarak seri üretime girmesinin henüz üç ila beş yıl uzakta olduğunu vurguladı.
EUV ışık kaynakları, silikon plakalar üzerine mikroskobik devre desenlerinin işlenmesini sağlayan ileri litografi sistemlerinin merkezinde yer alıyor. Washington öncülüğündeki ihracat kısıtlamaları kapsamında, dünyada ticari EUV litografi makineleri üretebilen tek şirket konumundaki Hollandalı ASML'in Çinli müşterilere en gelişmiş sistemlerini satması engelleniyor. Bu yaptırımlar nedeniyle yerli çip üreticileri daha eski derin ultraviyole (DUV) ekipmanlarına ve çoklu desenleme yöntemlerine yönelirken, yerel araştırma ekipleri de yerli EUV geliştirme çalışmalarına hız kazandırdı.
Girişimin sergilediği prototipe rağmen küresel yarı iletken liderleri hızlı bir atılım ihtimaline temkinli yaklaşıyor. ASML CEO'su Christophe Fouquet, çarşamba günü düzenlediği yatırımcı toplantısında şirketin ürünlerine erişebildikleri sürece Çinli müşterilerin yerli alternatifler geliştirme teşvikinin sınırlı olduğunu savundu ve Çin'in ASML teknolojisini yakalaması için önünde halen çok uzun bir yol bulunduğunu dile getirdi.
Tsinghua Üniversitesi Gaz Deşarjı ve Plazma Laboratuvarı kökenli araştırmacılar tarafından 2024 yılında kurulan Langdao Silex, SMIC ile bağlantılı China Fortune-Tech Capital dahil olmak üzere devlet destekli ve sektörel fonlardan yatırım aldı. Bernstein Research tarafından yayımlanan raporda ise Avrupalı ve Japon tedarikçilerden parça akışının daralmasıyla birlikte Çinli ekipman üreticilerinin yerli bileşenleri hızla benimsediği, yerli tedarikçilerin pazar payının 2028 yılına kadar yüzde 52'ye ulaşmasının öngörüldüğü kaydedildi. Şanghay'daki fuar, gelişmiş litografi cihazları alanında laboratuvardan sanayiye geçiş çabalarının sürdüğünü somutlaştırıyor.
Neden önemli?Küresel ihracat kısıtlamaları altındaki Çin'in en gelişmiş çip üretiminde dışa bağımlılığı kırma çabasında önemli bir teknik adım oluştururken, seri üretim için üç ila beş yıllık takvim öngörülüyor.
Cevabı beklenen sorular
- Geliştirilen EUV ışık kaynağı prototipinin ticari ölçekte litografi cihazlarına entegrasyonu ve kararlı dalga boyu verimliliği hangi aşamada test edilecek?
- Çinli üreticilerin seri üretime ulaşması öngörülen üç ila beş yıllık sürede küresel yarı iletken pazarındaki teknolojik fark nasıl şekillenecek?
Kaynaklar ve belgeler
Bu haberde kullanılan belgelere aşağıdaki bağlantılardan ulaşabilirsiniz.
